工業(yè)純水反滲透設(shè)備

　　反滲透設(shè)備是將原水經(jīng)過(guò)精細(xì)過(guò)濾器、顆粒活性碳過(guò)濾器、壓縮活性碳過(guò)濾器等，再通過(guò)聚加壓，利用孔徑為μm1/10000m的反滲透膜，使較高濃度的水變?yōu)榈蜐舛人瑫r(shí)將工業(yè)污染物、重金屬、細(xì)菌、病毒等大量混入水中的雜質(zhì)全部隔離，從而達(dá)到飲用規(guī)定的理化指標(biāo)及衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備。

　　工業(yè)純水反滲透設(shè)備優(yōu)勢(shì)

　　1、采用進(jìn)口增壓泵，高效率低噪音，穩(wěn)定可靠;

　　2、在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全;

　　3、不用大量的化學(xué)藥劑和酸堿再生處理，無(wú)化學(xué)廢液排放，無(wú)環(huán)境污染;

　　4、反滲透可以連續(xù)運(yùn)行制水，系統(tǒng)簡(jiǎn)單，操作方便，產(chǎn)品水質(zhì)穩(wěn)定。

　　工業(yè)純水反滲透設(shè)備清洗條件

　　在正常運(yùn)行一段時(shí)間后, 反滲透膜元件會(huì)很快受到給水中可能存在的懸浮物或難溶物質(zhì)的污染, 這些物質(zhì)中常見(jiàn)為碳酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或無(wú)機(jī)沉積物。污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān), 污染是慢慢發(fā)展的, 如果不在早期采取措施, 污染將會(huì)在相對(duì)較短的時(shí)間內(nèi)損害膜元件的性能, 定期檢測(cè)系統(tǒng)整體性能是確定膜元件發(fā)生污染的一個(gè)好方法, 不同的污染物會(huì)對(duì)膜元件性能造成不同程度的損害。當(dāng)反滲透膜被污染后，會(huì)造成產(chǎn)水量降低，進(jìn)水側(cè)與濃水側(cè)的壓降增加，當(dāng)達(dá)到下列條件之一時(shí)，就應(yīng)對(duì)膜設(shè)備進(jìn)行清洗。

　　⑴ 產(chǎn)水量下降10%(與初期產(chǎn)水量相比);

　?、?出水脫鹽率下降10%(與初期脫鹽率相比);

　?、?進(jìn)水側(cè)與濃水側(cè)的壓差增加15%(與初期壓降值相比)。

　　反滲透系統(tǒng)維護(hù)簡(jiǎn)單，但是不能疏忽大意，只有在日常的運(yùn)行維護(hù)方面措施得當(dāng)，管理嚴(yán)格，才能確保安全經(jīng)濟(jì)運(yùn)行。

　　工業(yè)純水反滲透設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

　　1.電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水。

　　2.制藥行業(yè)用水：大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等。

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　　以上內(nèi)容為產(chǎn)品簡(jiǎn)介，設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定，可*再生。機(jī)械損耗小，不需要考慮設(shè)備使用時(shí)間短的問(wèn)題，為企業(yè)節(jié)約成本。如果您想了解更多有關(guān)設(shè)備的詳細(xì)信息，可以關(guān)注萊特萊德或留言給小編。