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參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號ITO
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地
更新時(shí)間:2018-05-02 22:04:36瀏覽次數(shù):281次
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詳細(xì)說明 | 本鍍膜設(shè)備是在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃上采用真空磁控濺射技術(shù)、孿生陰極、中頻濺射技術(shù),并配以*的控制系統(tǒng),鍍制SO2/ITO膜層,生產(chǎn)過程全部自動(dòng)、連續(xù)進(jìn)行。 主要組成部分 1 真空室:不銹鋼制造,立式,外壁通冷卻水,內(nèi)襯不銹鋼擋板 2 真空系統(tǒng):可選擴(kuò)散泵系統(tǒng),蝸輪分子泵系統(tǒng)或低溫泵系統(tǒng) 3 蒸發(fā)源:直流磁控濺靶和孿生陰極,中頻磁控濺射靶,分別固定在真空室兩例 4 工件烘烤:采用不銹鋼管狀加熱器配合熱板,確保基片加熱均勻性 5 充氣系統(tǒng):氣體質(zhì)量流量計(jì)和壓強(qiáng)自動(dòng)控制儀 6 電氣控制系統(tǒng):觸摸屏與PLC自動(dòng)控制,人機(jī)對話方式來實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示、操作與制 7 水冷系統(tǒng):真空室冷卻和陰極冷卻,有水壓保護(hù)開關(guān)和水濕開關(guān) 主要技術(shù)參數(shù): 極限真空壓力:7*10-4pa 平均生產(chǎn)周期:90秒/架 基片導(dǎo)尺寸:750*1200mm 總功率:350kw 直流磁控靶功率:20kw 中頻磁控靶功率:10kw |
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