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更新時(shí)間:2017-08-10 09:25:50瀏覽次數(shù):274次
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原產(chǎn)地: | 東莞穗誠(chéng) | ||
詳細(xì)說明 | 真空電弧離子鍍的原理是基于冷陰極自持真空弧光放電理論。在電弧源離子鍍中,以鍍膜材料作為靶極(陰極),借助引弧裝置,使靶表面產(chǎn)生弧光放電。它是一種自蒸發(fā)自離化式固體蒸發(fā)源。這種蒸發(fā)源可蒸鍍金屬材料、合金材料,也可進(jìn)行反應(yīng)離子鍍,如tin、tic、(tial)n、 zrn、cn等超硬膜,al、 ag、cu、mcraey等高低溫耐蝕膜、不銹鋼、黃銅、鎳鉻、(tial)n、ti、cr等裝飾保護(hù)膜等。我公司生產(chǎn)的多弧離子鍍膜機(jī)標(biāo)準(zhǔn)尺寸為:φ800*1000mm, φ900*1000mm, φ1000*1200mm, φ1200*1500mm。電弧源數(shù)量分別為8、10、12、14、16個(gè),弧源尺寸:φ100或φ65并可根據(jù)用戶需要加裝磁控濺射靶、(旋轉(zhuǎn)圓柱靶或長(zhǎng)方靶)加裝非平衡磁場(chǎng)等,用戶可根據(jù)自身需要選擇,也可提出特殊要求,特殊設(shè)計(jì)制造。我公司電弧源帶有磁場(chǎng)過濾線圈,電脈沖引弧系統(tǒng),膜層細(xì)膩,*特色。 真空電弧離子鍍工作條件及相關(guān)參數(shù): 真空度: 5x10-2pa~以上;陰極工作電壓: 60~400伏 ; 起弧極工作電壓: 300~800伏;脈沖頻率: 1—10hz |
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