會(huì)員1.png)
QQ交談
MSN交談
產(chǎn)品展示
硅片清洗設(shè)備（非標(biāo)設(shè)備）
- 公司名稱：
- 更新時(shí)間：
- 所 在 地：
- 生產(chǎn)地址：
- 瀏覽次數(shù)：
- 蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司
- 2017-08-20 02:02:27
- 蘇州市
- 蘇州園區(qū)獨(dú)墅湖高教區(qū)若水路398號(hào)
- 446
【簡(jiǎn)單介紹】
【詳細(xì)說明】
用途：廣泛用于IC生產(chǎn)及半導(dǎo)體元器件生產(chǎn)中晶片的濕法化學(xué)工藝；
? 效用：本設(shè)備可有效去除晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性；
? 功能槽包括：加熱酸缸、HF腐蝕、BHF（HF恒溫緩沖腐蝕）、超聲清洗槽、恒溫水浴、QDR（快排沖水）、電爐等。
? 全自動(dòng)硅片清洗設(shè)備特點(diǎn)： 進(jìn)口伺服驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)及機(jī)械手臂，清洗過程中無需人工操作。通過PLC實(shí)現(xiàn)控制，全部操作通過觸摸屏界面一次完成。 可預(yù)先設(shè)制多條清洗工藝，可同時(shí)運(yùn)行多條工藝。 自動(dòng)化程度高，適用于批量生產(chǎn)，確保清洗質(zhì)量的*性。自動(dòng)氮?dú)夤呐菅b置可有效提高產(chǎn)品質(zhì)量，縮短清洗時(shí)間。 可選裝層流凈化系統(tǒng)及自動(dòng)配酸裝置。
相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品搜索
請(qǐng)輸入產(chǎn)品關(guān)鍵字：
聯(lián)系方式