干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量，從而測得與此有關(guān)的其他物理量。測量精度決定于測量光程差的精度，干涉條紋每移動一個條紋間距，光程差就改變一個波長(～10-7米)，所以干涉儀是以光波波長為單位測量光程差的，其測量精度之高是任何其他測量方法所*的。
1 、非接觸式測量：避免物件受損。
2 、三維表面測量：表面高度測量范圍為12nm - 120μm。 
3 、多重視野鏡片：方便物鏡的快速切換。
4 、納米級分辨率：垂直分辨率可以達0.1nm。
5、高速數(shù)字信號處理器：實現(xiàn)測量僅需幾秒鐘。
6 、掃描儀：閉環(huán)控制系統(tǒng)。
7、工作臺：氣動裝置、抗震、抗壓。
8 、測量軟件：基于windows 操作系統(tǒng)的用戶界面，強大而快速的運算

主營產(chǎn)品：

Laurell勻膠機    

Harrick等離子清洗機  

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機      

Novascan紫外臭氧清洗機

Wenesco/EMS/Unitemp加熱板  

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)    

Wabash/Carver自動壓片機