詳細(xì)介紹
為了獲得具備電磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子輕量化材料, 但 PPS, PEEK 導(dǎo)電性能差、無電磁波屏蔽能力或者達(dá)不到理想的屏蔽效果, 因此, 某機(jī)構(gòu)采用磁控濺射鍍膜工藝對 PPS、PEEK 等材料結(jié)構(gòu)件產(chǎn)品表面進(jìn)行金屬化處理.
其工藝主要分為前處理、鍍膜、后處理等三個環(huán)節(jié).
前處理需要對 PPS/PEEK 待鍍襯底面進(jìn)行 Hall 離子源清洗, 該機(jī)構(gòu)采用伯東 KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對 PPS/ PEEK 襯底面進(jìn)行清洗.
KRI 考夫曼 霍爾離子源 Gridless eH 3000 主要技術(shù)參數(shù):
離子源型號 | 霍爾離子源 eH3000 |
Cathode/Neutralizer | HC |
電壓 | 50-250V |
電流 | 20A |
散射角度 | >45 |
可充其他 | Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
氣體流量 | 5-100sccm |
高度 | 6.0“ |
直徑 | 9.7“ |
水冷 | 可選 |
其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5 Pa, 經(jīng)推薦采用伯東經(jīng)濟(jì)型分子泵組 HiCube 30 Eco, 其技術(shù)參數(shù)如下:
泵組型號 | 進(jìn)氣法蘭 | 分子泵 | 抽速 | 極限真空 | 前級泵型號 | 前級泵 |
Hicube 30 Eco | DN 40 ISO-KF | Hipace 30 | 22 | 1X10-7 | MVP 015-2 | 1 |
運(yùn)用結(jié)果:
1. KRI 考夫曼 霍爾離子源 eh 3000 對襯底面良好的清洗, 提高了膜層的附著力
2. 經(jīng)濟(jì)型分子泵組 HiCube 30 Eco快速將本底真空抽到 1×10-5 Pa, 并穩(wěn)定保持整個過程的真空度
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.
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上海伯東: 羅小姐