防爆氧分析儀其核心部分是一個(gè)激光檢測(cè)裝置，其中的氦氖激光器可以發(fā)射一種安全的低功率單波激光到一個(gè)氣體測(cè)試腔內(nèi)。由于激光能量微弱，裝置內(nèi)部通過(guò)檢測(cè)腔兩端的反射鏡不斷進(jìn)行反射，將能量放大1000倍左右。光子與氣體分子發(fā)生碰撞后發(fā)生散射，產(chǎn)生一種不同于激光頻譜的光譜，而且不同分子散射出來(lái)的光譜是特定不相同的，這就是我們所稱的“拉曼散射光譜”。檢測(cè)腔內(nèi)壁裝有8個(gè)光學(xué)濾波器和光電傳感器，用來(lái)吸收和檢測(cè)不同分子的特定光譜頻率，從而得到8種不同待測(cè)氣體成分含量。根據(jù)這種原理，每種待測(cè)氣體的含量都是通過(guò)直接測(cè)量得到的，不需要任何的導(dǎo)算；RLGA的檢測(cè)精度更高；反應(yīng)速度更快.

防爆氧分析儀DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)，半導(dǎo)體激光穿過(guò)被測(cè)氣體的光強(qiáng)衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關(guān)系式表明氣體濃度越高，對(duì)光的衰減也越大。因此，可通過(guò)測(cè)量氣體對(duì)激光的衰減來(lái)測(cè)量氣體的濃度。

氣體成分在管道及設(shè)備中流動(dòng)時(shí)發(fā)生的微觀變化是復(fù)雜的、多變的。在常量氣體成分分析時(shí)可以忽略的諸多影響因素，在微量氣體成分分析時(shí)不僅不能忽略，反而必須認(rèn)真對(duì)待，此時(shí)，這些因素已經(jīng)成為影響微量氣體成分分析正確結(jié)果的主要矛盾，必須逐一排除和解決才能使微量氣體分析儀器工作順利完成。這些影響因素主要包括以下幾個(gè)方面：①取樣管路內(nèi)氣體多次的反復(fù)混合；②管壁與氣體成分的物理化學(xué)作用；③管路材質(zhì)；④管路連接方式；⑤管路潔凈程度。

儀器作為一種計(jì)量檢測(cè)工具，在正常運(yùn)行情況下，給出的數(shù)據(jù)絕大多數(shù)都是相對(duì)量值，測(cè)定數(shù)據(jù)是否準(zhǔn)確及準(zhǔn)確的程度（精度），儀器本身是無(wú)法提供的，也是無(wú)法證實(shí)的。必須依靠外圍技術(shù)工作完成，這就是分析數(shù)據(jù)的驗(yàn)證工作。