SAMCO二手翻新ICP刻蝕機RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一個具有優(yōu)良工藝重復性和穩(wěn)定性的全規(guī)模生產系統(tǒng)。該系統(tǒng)是直徑4英寸等小直徑晶圓的專用系統(tǒng)，可以在最小的潔凈室空間內安裝。

主要特點和優(yōu)點

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"

可高效穩(wěn)定地應用高射頻功率（2千瓦以上），并實現良好的均勻性。

大流量排氣系統(tǒng)

排氣系統(tǒng)直接連接到反應室，可以實現從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。

端點監(jiān)測

干涉法和發(fā)射光譜終點監(jiān)測儀可用于目標薄膜厚度的終點檢測。

易于維護的設計

TMP(渦輪分子泵)已集成在一個單元中，便于更換。

應用

GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度加工

SiC、SiO?的高速加工

蝕刻鐵電材料（PZT、BST、SBT、SBT）、電極材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他難以蝕刻的材料