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步入式鹽霧試驗(yàn)室

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更新時(shí)間:2022-03-14 14:03:33瀏覽次數(shù):211次

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產(chǎn)品用途:步入式鹽霧試驗(yàn)室:適用于零部件、電子元?dú)饧?、金屬材料的防護(hù)層以及工業(yè)產(chǎn)品的鹽霧腐蝕試驗(yàn)鹽霧腐蝕試驗(yàn)設(shè)備按GB2423.17-2000標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)計(jì)制造,可進(jìn)行各種鹽霧腐蝕試驗(yàn)

步入式鹽霧試驗(yàn)室.png


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產(chǎn)品用途:

步入式鹽霧試驗(yàn)室:適用于零部件、電子元?dú)饧?、金屬材料的防護(hù)層以及工業(yè)產(chǎn)品的鹽霧腐蝕試驗(yàn) 

鹽霧腐蝕試驗(yàn)設(shè)備按GB2423.17-2000標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)計(jì)制造,可進(jìn)行各種鹽霧腐蝕試驗(yàn)。 

鹽霧試驗(yàn)室概述:

1產(chǎn)品應(yīng)用:本鹽霧腐蝕試驗(yàn)箱可以用來考核材料及其防護(hù)層的抗鹽霧腐蝕的能力,以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較,也可以用來考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕的能力。

2產(chǎn)品特點(diǎn):

2.1該設(shè)備是全新的,試驗(yàn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)*合理,制造工藝規(guī)范,為自主開發(fā)研制的產(chǎn)品,具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品,外觀美觀、大方。

2.2設(shè)備具有良好的操作性、維護(hù)性、良好的溫度穩(wěn)定性及持久性、不污染環(huán)境及危害人身健康。

2.3設(shè)備另附國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的試驗(yàn)溶液配制方法。

2.4基本工作原理:鹽霧腐蝕試驗(yàn)箱由電熱控溫,加熱至標(biāo)準(zhǔn)所需溫度,鹽溶液以連通器的原理進(jìn)行補(bǔ)給,氣體通過加熱的飽和桶由噴嘴噴出,達(dá)到霧化鹽溶液的目的,以檢測(cè)試件的抗腐蝕能力。

2.5滿足標(biāo)準(zhǔn):本鹽霧腐蝕試驗(yàn)設(shè)備按GB2423.17-2000標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)計(jì)制造,可進(jìn)行各種鹽霧腐蝕試驗(yàn)。

技術(shù)參數(shù):

1工作室尺寸:2000×2000×2000mm(深×寬×高),(可根據(jù)客戶需求定制)

2溫度范圍:35℃~65℃

3濕度范圍:90~98%R·H (鹽霧時(shí)、不可控)

4空氣飽和器:RT+10℃ ~ 70℃

5溫度偏差度≤±2℃(空載時(shí))

6溫度波動(dòng)度≤±0.5℃(空載時(shí))

7噴霧沉降量:1~2ml / 80cm2 .h

8噴霧方式:氣流噴霧式,連續(xù)/間隙任意。

箱體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)介          工作原理及結(jié)構(gòu): 

鹽霧試驗(yàn)室組成:試驗(yàn)室室體

1、供氣系統(tǒng)                         2、鹽溶液補(bǔ)給系統(tǒng) 

3、噴霧系統(tǒng)                         4、壓力平衡及排霧排水系統(tǒng) 

5、快速排霧裝置                       6、控制及執(zhí)行系統(tǒng) 

7、保護(hù)系統(tǒng)執(zhí)行系統(tǒng) 

試驗(yàn)室室體結(jié)構(gòu):

試驗(yàn)室由庫(kù)板拼裝焊接組成,它直接構(gòu)成了一個(gè)密封的試驗(yàn)空間,箱體能自動(dòng)保溫在規(guī)定的溫度范圍內(nèi),同時(shí)能滿足噴霧裝置的布置、氣路、鹽水補(bǔ)給管路、濕熱溫濕度循環(huán)和溫度傳感器及排霧位置要求。由于鹽霧試驗(yàn)時(shí),溫度(35℃),還有較強(qiáng)的腐蝕性,因此制造鹽霧試驗(yàn)箱箱體的材料應(yīng)有一定的抗腐耐溫性能。為了達(dá)到耐腐蝕、易清洗、耐溫度、有一定強(qiáng)度的需要。根據(jù)室體的長(zhǎng)、寛、高按一定的尺寸在制造廠方預(yù)先做好組合室體及箱體骨架。預(yù)埋底部試件承重框架及溫濕度試驗(yàn)循環(huán)風(fēng)道的組裝。鹽霧試驗(yàn)規(guī)定噴霧形成的水滴不應(yīng)滴落在試驗(yàn)件上,試驗(yàn)室頂?shù)膴A角要有一定的角度,一般在110o~120o之間。而使形成的液滴沿著頂流到試驗(yàn)室的兩側(cè)。整個(gè)室體需進(jìn)行漏水、漏霧等處理。

主體部分 :

1、室體底座采用承重鋼焊接成網(wǎng)式框架,以便于在水平條件下能承受每平米大于1噸的試件重量,而不產(chǎn)生室體底面凹凸不平及開裂等。

2、整體結(jié)構(gòu):試驗(yàn)室體內(nèi)部含有鹽霧霧化系統(tǒng)、溫濕度循環(huán)系統(tǒng)、試件支撐放置裝置;試驗(yàn)室外部右側(cè)為控制系統(tǒng)及鹽霧飽和裝置、鹽溶液存儲(chǔ)輸送裝置, 后部為溫濕度試驗(yàn)的加濕裝置及循環(huán)裝置。

供氣系統(tǒng):

空氣壓縮機(jī)    —   初級(jí)油水分離器  —  貯氣罐  —  減壓閥  —總電磁閥 

 —   二級(jí)油水分離器  —  調(diào)壓閥  —  飽和器  — 噴霧電磁閥  —  噴嘴

本試驗(yàn)室采用氣流式噴霧,因此要有供氣系統(tǒng)。供氣系統(tǒng)的作用就是連續(xù)供給鹽霧試驗(yàn)室所需壓力的新鮮空氣。本系統(tǒng)需配置一臺(tái)低噪音空氣壓縮機(jī)作供氣氣源,外購(gòu)壓縮空氣貯氣罐一個(gè),以儲(chǔ)存氣體,以免直接供氣影響壓縮機(jī)的壽命,并可根據(jù)需要即時(shí)供氣。環(huán)境大氣經(jīng)空氣壓縮機(jī)壓縮成高壓空氣后進(jìn)入貯氣箱。

鹽水補(bǔ)給系統(tǒng):

1.氣流噴霧要連續(xù)進(jìn)行,鹽水的連續(xù)自動(dòng)補(bǔ)給是的。鹽水補(bǔ)給系統(tǒng)就是為達(dá)到這一目的而設(shè)置的,鹽水箱一般都放在室體上部,如不進(jìn)行適當(dāng)?shù)目刂疲贷}水很快流光,要么就會(huì)供不上噴霧的需求。

2.為了保持一定的虹吸高度,需要將鹽水虹吸水位保持在高度范圍內(nèi)。配置好的鹽溶液貯存在一塑料容器內(nèi),靠流量泵打到鹽水補(bǔ)給容器內(nèi),該鹽水補(bǔ)給容器布置在外層框架上,靠自動(dòng)液位控制器指揮流量泵工作。將水位上下限保持在10mm以內(nèi)??傒敵隽客ㄟ^流量傳感器反饋至微機(jī)測(cè)控系統(tǒng),為了符合試驗(yàn)要求,擬在各個(gè)噴嘴供水管路上各配一組流量調(diào)節(jié)及流量計(jì)、調(diào)節(jié)與顯示進(jìn)入噴嘴的流量。

3.為了使進(jìn)入噴咀的鹽溶液溫度與室內(nèi)溫度接近,需在鹽水補(bǔ)給箱內(nèi)加裝加熱器,由于鹽水的腐蝕性能及要求較高的溫度,鹽水補(bǔ)給容器PP塑料制的容器,并加以保溫管保溫,用專用的溫度控制器來控制,也可以用微機(jī)主控來控制??梢苑鲜褂靡蟆?/span>

噴霧系統(tǒng):

噴霧裝置的功能就是將鹽水補(bǔ)給系統(tǒng)送來的鹽水利用氣源系統(tǒng)供給的高壓空氣從噴咀中高速噴射時(shí)產(chǎn)生的引射作用,通過虹吸原理將鹽水吸上來噴出去成迷散的霧狀,由于霧中含有一些未霧化的水滴,所以噴出的物狀氣流不能直接引入到試驗(yàn)室體,而應(yīng)先打到一個(gè)鹽霧擋板上,將未霧化的水滴打碎成霧或?qū)⑵鋼趸貋?,使噴出的霧是不含水滴的細(xì)霧,以滿足鹽霧試驗(yàn)所規(guī)定的鹽霧直徑范圍內(nèi)的要求。鹽水沉降量的大小直接與鹽水補(bǔ)給和氣源供氣壓力的高低、擋板的角度有關(guān)。

排水及排污壓力平衡系統(tǒng):

1噴霧過程中鹽溶液采用抽氣排放,速度快。為了保護(hù)室體底部,防止老化,在底部上人為地留一薄層水,但超過一定高度就需要及時(shí)地排出室體。排水管與排霧管可有機(jī)地結(jié)合起來,通過一個(gè)通道既排出鹽霧又排出積水,同時(shí)又可保持壓力平衡,排霧口應(yīng)遠(yuǎn)離試驗(yàn)室。

 快速排霧裝置: 

試驗(yàn)結(jié)束后,室體內(nèi)尚有大量鹽霧存在,短時(shí)間內(nèi)不能全部沉降或排出室外。為了方便試驗(yàn)人員盡早進(jìn)入室體,本室設(shè)計(jì)有一套快速排霧裝置,在15分鐘內(nèi)可將室內(nèi)的鹽霧排除。

設(shè)備使用條件:

1電源:AC 380V±10%、50 Hz、三相四線+接地線

2環(huán)境溫度:5~32℃

3環(huán)境濕度≤85%R.H

4環(huán)境條件:設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)周圍無強(qiáng)烈振動(dòng)、無強(qiáng)電磁場(chǎng)干擾、無高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì)、無陽光直接照射或其它熱源直接輻射。

5場(chǎng)地要求:設(shè)備應(yīng)水平放置于通風(fēng)良好的試驗(yàn)室內(nèi),周圍應(yīng)留有充足的空間供操作及維護(hù)之用;

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