GC900E型氣相色譜儀儀器特點及技術(shù)參數(shù)：
一、事件時間程序：
主板可設(shè)時間程序（外部事件）：13路
二、電壓范圍：
220伏±10% 其他電壓＋5% －10%
三、加熱區(qū)：
1.十個獨立加熱區(qū)控制（包括爐箱溫控）
2.輔助加熱區(qū)操作溫度：400℃
3.可設(shè)定獨立小柱箱加熱區(qū)
四、柱溫箱的指標(biāo)：
1.柱箱尺寸:280×300×180 mm
2.操作溫度范圍：高于室溫5℃～400℃
3.可使用液氮冷阱：—80℃至400℃
4.可使用干冰冷阱：—55℃至400℃
5.程序升溫：24階25平臺
6.溫度設(shè)定精度：0.1℃
7.程序升溫速度: 120℃/min
8.最長一次方法運行時間：999.99min
9.可運行柱流失補償（雙通道）
10.從350℃降至50 ℃時間≤4min，(配有變頻電機)
五、進(jìn)樣口：
1.雙通道進(jìn)樣口
2.進(jìn)樣口類型可選：
3.填充柱進(jìn)樣口（帶隔墊吹掃，可接大口徑毛細(xì)管柱）
4.毛細(xì)管柱分流/不分流進(jìn)樣口）
5.程序升溫冷柱頭進(jìn)樣口
6.揮發(fā)性組分串接進(jìn)樣口（專配與頂空/吹掃捕集/熱脫附等樣品預(yù)處理裝置）
六、填充柱進(jìn)樣口：
1.高精度電子壓力/流量控制
2.使用溫度400°C
3.柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi
4.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
5.總流量設(shè)定范圍：0 to 100 mL/min
6.流量設(shè)定精度：0.1mL/min
7.更換變徑接頭可適配與1/4英寸，1/8英寸填充柱，以及0.53/0.32mm毛細(xì)管柱
七、分流/不分流毛細(xì)管柱進(jìn)樣口：
1.高精度電子壓力/流量控制
2.使用溫度400°C
3.柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi
4.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
5.總流量設(shè)定范圍：
0 —1000ml/min（氦氣）
0 —200ml/min（氮氣）
6.流量設(shè)定精度：0.1ml/min
7.分流比：1：1000
八、程序升溫冷柱頭進(jìn)樣口：
1.高精度電子壓力/流量控制
2.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
3.柱頭壓力設(shè)定范圍：0—100psi
4.使用溫度400°C
5.柱箱溫度跟蹤模式、自遍程序升溫模式
6.適配0.53/0.32/0.25/0.20mm毛細(xì)管柱
九、揮發(fā)性串接進(jìn)樣口：
1.高精度電子壓力/流量控制
2.柱頭壓力設(shè)定范圍：0—100psi
3.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
4.總流量設(shè)定范圍：0-1000 ml/min（氦氣或者氫氣）
5.流量設(shè)定精度：0.1ml/min
6.使用溫度400°C
十、檢測器：
1.所有檢測器均包括為電子流量控制模塊。
2.可選配檢測器
?氫火焰離子化檢測器（FID, 對數(shù)放大器）
②熱導(dǎo)檢測器（TCD）
③電子捕獲檢測器（微池ECD）
④火焰光度檢測器（FPD）
⑤氦離子化檢測器（PDHID）
十一、氫火焰離子化檢測器（FID）：
1.高精度電子流量/壓力控制
2.適配與填充柱和毛細(xì)管柱
3.使用溫度400°C
4.最小檢出限：<1.0pg/s（n-C16）
5.動態(tài)線性范圍：107（+10%）
6.數(shù)據(jù)采集頻率：100HZ
十二、電子捕獲檢測器（ECD）：
1.高精度電子流量/壓力控制
2.適配與填充柱和毛細(xì)管柱
3.使用溫度400 °C
4.隱性陽極（帶吹掃）
5.檢測器補償氣類型：5%甲烷/氬氣或者氮氣
6.數(shù)據(jù)采集頻率：100Hz
7.動態(tài)線性范圍：>5*105
8.最小檢出限：<10fg/ml(丙體六六六)
十三、火焰光度檢測器（FPD）：
1.高精度電子流量/壓力控制
2.使用溫度400 °C
3.最小檢出限：<10pg S/sec, <0.2pgP/sec ()
4.動態(tài)線性范圍：>103S，>104P
十四、熱導(dǎo)檢測器（TCD）：
1.電子壓力/流量控制
2.操作溫度300 °C
3.檢測限（MDL）：< 400 pg /ml(C3H8)，使用He載氣(實驗室環(huán)境可能會影響MDL)
4.靈敏度：>10000 mv?ml/mg
5.線性動態(tài)范圍：105 (± 10%)
十五、輔助電子流路控制模塊：
1.三通道輔助壓力控制模塊（壓力控制模式）
2.二通道輔助壓力控制模塊（壓力控制模式）
3.單通道輔助壓力控制模塊（壓力控制模式）
4.單通道氣體流路控制模塊（壓力/流量控制模式）
