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脈沖激光沉積腔體系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介

脈沖激光沉積腔體系統(tǒng)（PLD系統(tǒng)）是一個(gè)基于不銹鋼圓形腔室的真空設(shè)備。該腔室多個(gè)法蘭口可安裝實(shí)驗(yàn)配件，包括RHEED、發(fā)射光譜、高溫測定、薄膜沉積晶振等，實(shí)現(xiàn)對薄膜生長速率的控制。該設(shè)備主要包括真空系統(tǒng)、磁耦合轉(zhuǎn)靶機(jī)構(gòu)，高溫加熱伸縮機(jī)構(gòu)。

詳細(xì)介紹

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