磁控濺射+蒸發(fā)鍍膜設(shè)備：立式、臥式。是一種多功能、高效的鍍膜設(shè)備，同時(shí)配備高效的電阻加熱蒸發(fā)裝置和*的圓柱磁控濺射裝置，加熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)和磁控濺射鍍膜技術(shù)的有效結(jié)合，使設(shè)備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層。
可根據(jù)用戶要求配置旋轉(zhuǎn)磁控耙、中耙孿生濺射耙、非平衡磁控濺射耙、直流脈沖疊加式偏壓電源等，組態(tài)靈活、用途廣泛，主要用于金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件鍍鋁、銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、致密、附著力強(qiáng)等特點(diǎn)，可廣泛用于家電電器、鐘表、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩、手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。