單晶硅超純水設(shè)備,二極管超純水設(shè)備,半導體超純水設(shè)備
【電子超純水工藝簡介】
電子、半導體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過程中,往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話,會影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產(chǎn)一個晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液,如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導致報廢、次品。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓降低,III族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20%~50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導致器件性能變壞。水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。因此水的質(zhì)量相當重要。采用反滲透加EDI的脫鹽工藝,可以達到超純水標準。單晶硅超純水設(shè)備,二極管超純水設(shè)備,半導體超純水設(shè)備
【應(yīng)用】
微電子行業(yè)包括了電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、單晶硅、多晶硅生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)等生產(chǎn)工藝,都需要工業(yè)超純水。單晶硅超純水設(shè)備,二極管超純水設(shè)備,半導體超純水設(shè)備
【典型工藝】
原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性碳過濾器→保安過濾器→一級反滲透→二級反滲透→純水箱→純水泵→TOC分解器→脫氣膜→保安過濾器→EDI裝置→純水箱→純水泵→拋光混床→膜過濾器→生產(chǎn)線用水點
先鋒采用膜法工藝(反滲透→EDI→拋光混床),使超純水制備從傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器等發(fā)生了一次革命,從此進入了一個無需再生化學品的時代。高科技膜法制備出來的工業(yè)純水,其純度可達到18MΩ·CM,且系統(tǒng)穩(wěn)定,使用壽命長,且生產(chǎn)過程所產(chǎn)生的廢水又可回用再生。
隨著時代和科技的發(fā)展,高效液相等精密分析儀器已普及至與分析測試有關(guān)的行業(yè),對實驗水質(zhì)要求也愈來愈高?,F(xiàn)今高效液相(HPLC) 都要求用戶使用超純水定出平坦而沒有波峰的基線以保證分析測試的靈敏度,但有部分HPLC用戶因資金或習慣等原因仍沿用瓶裝飲用純凈水或蒸餾水進行實驗,效果往往不很理想。
瓶裝純凈水和蒸餾水均只是普通純水而不是高純水,水中仍含有少量離子和有機物等雜質(zhì),用以配制液相和洗脫液不僅可能污堵昂貴的色譜柱,也影響HPLC定出平坦的基線。
瓶裝純凈水的純化工藝,通常包括吸附、過濾、反滲透等,對顆粒性有機物的去除效果較好,但對微量有機物的去除卻不能滿足高靈敏度的HPLC實驗之需求,并且,由于其包裝通常多為PVC瓶,透氧率高,同時存在一定的化學溶出量,從而污染瓶中的純凈水,尤其是保存一段時間后,水質(zhì)下降更多,因此表現(xiàn)在HPLC色譜圖上,雖無特定吸收峰,但基線存在較嚴重的不穩(wěn)干擾。
有專家對重蒸水進行HPLC檢測時發(fā)現(xiàn),254nm和214nm在22-27分鐘時都出現(xiàn)較強的吸收峰,這表明有疏水性較強的有機物污染,其原因應(yīng)是蒸餾過程的共沸現(xiàn)象導致了某些揮發(fā)性有機物去除不。
超純水系統(tǒng)綜合了水處理設(shè)備、雙級反滲透設(shè)備、超純化后處理等多種精密純化工藝,產(chǎn)水水質(zhì)指標接近Milli-Q水,并且超純水即取即用,不會因儲存引入污染,水質(zhì)有保證,較之使用瓶裝純凈水或蒸餾水,更能滿足用戶高精度儀器分析的需要。
(備注:純度越高的水,越容易受到空氣和容器等帶來的外界污染,超純水應(yīng)即取即用。這樣,在高精度的儀器分析中才能盡可能的排除外界干擾的影響,從而得到滿意的結(jié)果。)
超純水系統(tǒng)去除有機物工藝介紹:
(1)水質(zhì)預(yù)處理器含有的活性炭濾芯可吸附濾除自來水中的80%的有機物雜質(zhì)。
(2)RO反滲透膜孔徑小至0.001微米,對分子量大于300dalton的有機物去除,超純水系統(tǒng)特殊設(shè)計的雙級反滲透出水有機物含量可低至10-20ppb,滿足Milli-Q等進口超純水機的源水水質(zhì)要求。單晶硅超純水設(shè)備,二極管超純水設(shè)備,半導體超純水設(shè)備
(3)超純水系統(tǒng)特殊設(shè)計的紫外消解儀能產(chǎn)生波長185nm的紫外光在水中產(chǎn)生的羥基原子團,可迅速將水中殘余的少量有機物氧化為二氧化碳,水和一些有機中間產(chǎn)物打斷。
(4)終端微濾器可濾除顆粒性有機物及樹脂碎屑。
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