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5kg分子泵系統(tǒng)真空熔煉爐感應(yīng)爐

1. 設(shè)備用途

本產(chǎn)品為臥式對(duì)開(kāi)式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)新穎外形美觀。主要供大專(zhuān)院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處。真空系統(tǒng)采用分子泵，真空獲取指標(biāo)高，潔凈度高，抽真空塊，是實(shí)驗(yàn)室金屬合金熔煉制樣的理想設(shè)備。

5kg分子泵系統(tǒng)真空熔煉爐感應(yīng)爐  設(shè)備圖

3. 主要技術(shù)參數(shù)

3.1 電源功率：60KW

3.2 電源電壓：380V、3相、50Hz 

3.3中頻電源功率：45Kw

3.4溫度：1750℃

3.5 坩堝容量：5Kg（以鋼液比重）

3.6極限真空度：6.67×10E-4Pa

3.7帶機(jī)械攪拌功能

3.8保護(hù)氣氛：氮?dú)?、氬氣?.05MPa

3.9控制方式：PLC+觸摸屏

3.10整體外形尺寸：2100×1100×1600mm(L×W×H)

3.11設(shè)備總重量：≦600Kg

4. 設(shè)備構(gòu)成

5. 結(jié)構(gòu)及功能說(shuō)明

5.1 爐體：采用雙層水夾層結(jié)構(gòu)，內(nèi)外壁全為304不銹鋼拋光。爐體和爐底組焊在一起，法蘭平面開(kāi)設(shè)密封槽。采用“0"圈真空密封，并設(shè)水冷裝置（防止因溫度過(guò)高“0"圈老化）。在爐體的后部設(shè)有抽氣孔、側(cè)部設(shè)有旋轉(zhuǎn)電極裝置等。

 5.2 爐蓋：采用雙層夾層封頭結(jié)構(gòu)，內(nèi)外304不銹鋼拉絲拋光。爐蓋上測(cè)溫裝置孔、觀察孔及機(jī)械攪拌裝置等。爐蓋一側(cè)有觸摸屏安裝支架，觸摸屏安裝在上面，方便操作。

5.3 爐架：由型鋼組焊成爐架，用于支撐爐體，并做為操作平臺(tái)，使操作更具人性化。電氣原器件安裝在內(nèi)部，一體化設(shè)計(jì)，一側(cè)安裝有真空測(cè)量裝置控制器，真空獲得裝置控制器，工作狀體顯示直觀。 

5.4 真空系統(tǒng)：由壹臺(tái)VRD-48直聯(lián)泵，壹臺(tái)JTFB-1200分子泵+高真空閥門(mén)組成。管道上并配充氣閥、放氣閥、空壓力表（±Pa）等。

5.5 感應(yīng)電源系統(tǒng)：電源采用IGBT中頻感應(yīng)電源，電源具有過(guò)流、過(guò)壓返饋及保護(hù)電路，可近端操作，也可在觸摸屏上遠(yuǎn)程操作，電控屏箱按標(biāo)準(zhǔn)制作，結(jié)構(gòu)美觀，操作方便。

5.6 水冷系統(tǒng)：由各種管道閥門(mén)等相關(guān)裝置組成，具有水壓欠壓、斷水聲光報(bào)警自動(dòng)切斷電源功能，保證操作安全 。

5.7 熔煉裝置：爐內(nèi)的坩堝外部有水冷感應(yīng)線圈，線圈通過(guò)電極引出爐體，當(dāng)熔煉好后，可通過(guò)旋轉(zhuǎn)回轉(zhuǎn)軸承操作機(jī)構(gòu)進(jìn)行澆鑄。

5.8機(jī)械攪拌裝置：為了保證物料熔化的均勻性，在爐蓋的上，坩堝的正上方加有一機(jī)械攪拌裝置，攪拌桿特殊材質(zhì)制作，能耐高溫，攪拌升降及攪拌采用電動(dòng)方式，操作方便。

5.9電氣控制：電氣控制采用PLC+觸摸屏控制方式，溫度真空數(shù)據(jù)可記錄可查詢(xún)，曲線可顯示，數(shù)據(jù)可保存可導(dǎo)出，控制系統(tǒng)集中安放在爐架的底部，整結(jié)大方，維修方便?？刂葡到y(tǒng)配置有施耐德接觸器、西門(mén)子繼電器、歐姆龍PLC、昆侖通態(tài)觸摸屏、數(shù)顯電流電壓功能儀表，所有的信號(hào)控制都有PLC和觸摸屏來(lái)完成。測(cè)溫控溫采用紅外儀直接測(cè)溫。控制系統(tǒng)具有超溫，水欠壓，機(jī)械泵過(guò)載等報(bào)警，并有聲光報(bào)警功能。所有元器件均采用品牌原件，保證品質(zhì)，使用安全可靠.