詳細摘要： 晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產(chǎn)品部件性能。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-19 在線留言粉碎設備 混合設備 分離設備 濃縮結晶設備 傳質設備 干燥設備 反應設備 換熱設備 制冷設備 空分設備 儲存設備 鍋爐|加熱設備 包裝機械 輸送設備 化工實驗室設備
東莞市杰邦水處理有限公司
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詳細摘要： 晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產(chǎn)品部件性能。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-19 在線留言
詳細摘要： 光學材料生產(chǎn)用超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-18 在線留言
詳細摘要： 觸摸屏液晶生產(chǎn)大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產(chǎn)品部件性能。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-18 在線留言
詳細摘要： 玻璃面板超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有行溶...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-17 在線留言
詳細摘要： 半導體生產(chǎn)用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PPb級，產(chǎn)水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-17 在線留言
詳細摘要： 電子芯片超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PPb級，產(chǎn)水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-12-16 在線留言
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