KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

詳細(xì)介紹

KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

針對市場上其它型號我們做如下改進(jìn)

1 腔體擴充口可增加擴展口大可擴展KF40接口方便連接分子泵或晶控傳感器

2 樣品可旋轉(zhuǎn) 大轉(zhuǎn)速20轉(zhuǎn)每分鐘使鍍膜樣品更均勻

3 輕旋轉(zhuǎn)機械手柄樣品高度可精細(xì)調(diào)節(jié) 樣品距離靶材距離可到1mm

4 電動擋板使用人機界面程序控制打開或者關(guān)閉時間

5 可通過人機界面手動或者使用編程自動控制預(yù)濺射（洗靶） 恒定功率輸出變換功率輸出 定時打開擋板（時間單位秒）關(guān)閉擋板樣品轉(zhuǎn)速工藝可存儲工藝名稱可改利如噴金20納米厚

6 腔體上蓋鉸鏈安裝更換靶材方便操作

7 此產(chǎn)品已申請多項技術(shù) 抄襲請慎重?。。?/strong>

小型新款磁控濺射儀技術(shù)參數(shù)：

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
大功率	≤1000W
大輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
極限真空	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺	可旋轉(zhuǎn)φ62 （大可安裝φ50基底）
樣品臺轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測量	皮拉尼真空計（已安裝測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口