凝聚法溶膠膠體磨  創(chuàng)新設(shè)計(jì)，溶膠膠體磨，溶膠研磨機(jī)，溶膠研磨分散機(jī)，溶膠高速膠體磨

上海依肯高剪切膠體磨采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度41m/s，剪切研磨能力強(qiáng)，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

溶膠是屬于膠體化學(xué)范疇，而是研究這些微小顆粒（膠體顆粒）分散體系的科學(xué)，通常規(guī)定膠體顆粒的直徑大小為1-100nm(也有人主張1-1000nm)。并把直徑為1-100nm的分散相粒子在分散介質(zhì)里的分散，并且分散相粒子與分散介質(zhì)之間有明顯物理分界面的稱之為膠體分散體系。習(xí)慣上，把分散介質(zhì)（分散劑）為液體的膠體分散體系稱為液溶膠或溶膠。
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液溶膠是指通過水解和聚合作用，形成的有機(jī)或無機(jī)的納米或微米級(jí)的粒子，這些粒子通常帶有電荷，并由于電荷作用，吸附一層溶劑分子，形成由溶劑包覆的納米或微米粒子，即膠體粒子，這些膠體粒子由于帶有電荷而相互排斥，從而能以懸浮狀態(tài)存在于溶劑中，即形成溶膠；膠體粒子由于失去電荷，或者包覆在外圈的溶劑層被破壞，膠體粒子發(fā)生聚合，溶膠發(fā)生固化即形成凝膠。

由于制備溶膠要求分散質(zhì)以交替狀態(tài)分布于介質(zhì)中，而且這種分散體系能在穩(wěn)定劑存在下能夠穩(wěn)定下來。從粒子大小看，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子，故可采用兩種途徑達(dá)到：將大塊物質(zhì)利用膠體磨等手段，磨成直徑0.1—1μm的粒子，即分散法；或使更小粒子凝聚成膠體粒子，即凝聚法。

分散法：可以采取機(jī)械研磨，超聲作用，電分散或化學(xué)法等。

凝聚法：使小分子聚集成膠體粒子zui簡單的辦法是更換溶劑法，例如將乙醇的硫磺溶液倒入水中，形成硫磺的水溶液；也可以利用化學(xué)反應(yīng)生成難溶性產(chǎn)物。在此，難溶性化合物從飽和溶液中吸出的過程中，使其停留在膠粒大小階段。因?yàn)榫w粒子成長決定于兩個(gè)因素：晶核生長速度W和晶體生長速度Q，所得粒子分散度與W/Q之比值成正比，那些有利于晶核大量生長而減慢晶體生長速度的因素都有利于溶膠形成（不利于得到大晶體）

膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用*幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
            
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IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)：一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。

CM2000系列的特點(diǎn)：

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

CM2000系列設(shè)備選型表

注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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