圓珠筆用炭黑水性色漿的分散設(shè)備，炭黑水性色漿的分散方法，顏料濃縮漿的分散設(shè)備，德國研磨分散機(jī)，循環(huán)式研磨分散機(jī)，中試型研磨分散機(jī)，

IKN研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動控制，且操作簡單方便，機(jī)器運行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到較全面的清洗。

色漿是一種顏料濃縮漿，即利用不同的顏料，通過對顏料表面處理、表面包裹等技術(shù)，經(jīng)過嚴(yán)密的加工工藝研制而成顏料分散體系。色漿可以用于涂料、油墨、墨水等的著色。根據(jù)所使用的溶劑不同，色漿分為水性色漿、油性色漿、水油通用色漿等。水性產(chǎn)品良好的環(huán)保性使其應(yīng)用不斷擴(kuò)展，也相應(yīng)地不斷推動水性色漿的發(fā)展。炭黑水性色漿的一大重要用途就是圓珠筆用水性墨水和中性墨水的著色劑。圓珠筆墨水用水性顏料色漿除了基本的分散穩(wěn)定性之外，還要求顏料粒子粒徑足夠小(D90< 350 nm)，色漿具有足夠低的黏度、高的表面張力和低的電導(dǎo)率。這樣，通過才能與增稠劑及其它助劑配合調(diào)制出應(yīng)用性能優(yōu)良的圓珠筆墨水。

炭黑作為一種典型的納米材料，原生粒子尺寸小(通常<100nm)、表面能高，極易聚集成較大的顆粒，很難穩(wěn)定分散于不同體系中，限制了炭黑性能的充分發(fā)揮，影響到下游制品的質(zhì)量和性能，成為炭黑應(yīng)用的一大瓶頸。炭黑的分散主要受制于三個因素：炭黑本身的特性、載體或分散介質(zhì)的類型、分散工藝和分散設(shè)備。

炭黑的分散好不好重要的還是取決于分散劑和分散設(shè)備，大家都知道，炭黑額原生粒徑都是＜100nm，則遇到液體之后就會形成團(tuán)聚力，要想很好的將團(tuán)聚力打開必須使用超高轉(zhuǎn)速及剪切力的設(shè)備，依肯機(jī)械研磨分散機(jī)即可實現(xiàn)這一步，炭黑結(jié)構(gòu)控制劑為納米碳基材料。通過引入異質(zhì)材料，一方面控制炭黑的結(jié)構(gòu)(領(lǐng)苯二甲酸二丁酯吸收值)，改變炭黑的粒徑分布，另一方面降低炭黑與炭黑粒子之間的接觸面積，打破單一炭黑微粒之間的附聚平衡，降低炭黑顆粒之間的團(tuán)聚力，提高炭黑的分散性能。

CMD2000模塊化設(shè)計主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時，物料通過投料口進(jìn)入分散腔，首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理，由于馬達(dá)帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進(jìn)行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足生產(chǎn)時對于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%