CMD2000石墨烯復(fù)合材料研磨設(shè)備,石墨烯納米金屬研磨設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī)
【簡(jiǎn)單介紹】
【詳細(xì)說(shuō)明】
石墨烯復(fù)合材料研磨設(shè)備,石墨烯納米金屬研磨設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī)
石墨烯由于*的納米結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的性能,有望成為一類新的電子材料、薄膜材料、儲(chǔ)能材料、液晶材料、催化材料等*的特種功能材料。石墨烯納米復(fù)合材料是石墨烯應(yīng)用的重要領(lǐng)域,盡管石墨烯的納米復(fù)合材料研究進(jìn)展緩慢,相信隨著研究的不斷深入,石墨烯的納米復(fù)合材料會(huì)越來(lái)越多,其相應(yīng)領(lǐng)域和應(yīng)用前景將非常廣闊。目前研發(fā)出來(lái)的主要有石墨烯-金屬納米復(fù)合材料、TiO2/石墨烯復(fù)合材料等。
在合成石墨烯復(fù)合材料時(shí),使用的都是微納米級(jí)顆粒,還需將金屬顆粒和石墨烯顆粒進(jìn)行研磨,且要防止這些超細(xì)微顆粒抱團(tuán),必須用到納米級(jí)研磨分散機(jī),上海依肯高剪切研磨分散機(jī)CMD2000系列轉(zhuǎn)速高達(dá)9000rpm(也可定制轉(zhuǎn)速14000rpm超高速),進(jìn)口電機(jī)經(jīng)久耐用,接觸材質(zhì)全部采用316L不銹鋼,*研磨技術(shù)和流行立式結(jié)構(gòu),是石墨烯和微納米級(jí)顆粒研磨分散的*選擇;上海依肯在石墨烯研磨方面已經(jīng)有上百例成功實(shí)驗(yàn),是國(guó)內(nèi)*廠家和研究院的*供應(yīng)商。
IKN研磨分散機(jī)CMD2000系列(石墨烯復(fù)合材料研磨設(shè)備,石墨烯納米金屬研磨設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī))
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
IKN高剪切研磨分散機(jī)的特點(diǎn)():
IKN研磨分散機(jī)是上海機(jī)械設(shè)備公司和德國(guó)IKN工程師合作研發(fā)的一款高科技產(chǎn)品,由膠體磨、分散機(jī)組合而成;是國(guó)內(nèi)*一款將研磨和分散兩種功能結(jié)合的zui*的流體設(shè)備。
- 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力非常強(qiáng)烈,通常所說(shuō)的超細(xì)濕磨
- 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4.在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5.高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
6.具體設(shè)備咨詢:蔡 ,公司有樣機(jī)提供實(shí)驗(yàn)。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列設(shè)備選型表:
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
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CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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| 流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
研磨分散機(jī)和均質(zhì)機(jī)的作用對(duì)比:
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
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