研磨分散機

簡介：

研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列研磨分散機的結構：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 的細化作用一般來說要強于均質機，而且它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下都有應用，可以實現(xiàn)研磨、分散、均質、乳化一步到位的高要求。

CMD2000系列的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列設備選型表

1.表中上限處理量是指介質為“水"的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準.

和均質機的作用對比：