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上海依肯機械設備有限公司

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納米乳劑抗生素藥物循環(huán)式真空乳化機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號ERS

品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地上海市

更新時間:2024-07-22 07:38:36瀏覽次數(shù):767次

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納米乳劑抗生素藥物循環(huán)式真空乳化機設備夾套設計可加熱,能夠?qū)⒁后w石蠟等熔融成流體,對于流動性較差的可在入口前加一臺轉(zhuǎn)子泵輸送,若流動性較好則可不用。ikn上海依肯公司引進德國*技術,采用高精度結(jié)構(gòu)設計,軸承、機械密封、工作做腔體、皮帶等等各個部件均可耐得住14000轉(zhuǎn)的高速甚至是21000轉(zhuǎn)的超高速。詳詢上海依肯 工程師 林萬翠

納米乳劑抗生素藥物循環(huán)式真空乳化機,液體石蠟復方藥物真空乳化機,德國藥用真空乳化機,高性能高靈活性的醫(yī)藥真空乳化機,循環(huán)式研磨真空乳化機,無塵無菌真空制藥乳化機,中試型制藥乳化機,抗生素藥物高剪切真空乳化機,立式分體高速真空乳化機,ikn分體式高速均質(zhì)乳化機

設備夾套設計可加熱,能夠?qū)⒁后w石蠟等熔融成流體,對于流動性較差的可在入口前加一臺轉(zhuǎn)子泵輸送,若流動性較好則可不用。ikn上海依肯公司引進德國xian進技術,采用高精度結(jié)構(gòu)設計,軸承、機械密封、工作做腔體、皮帶等等各個部件均可耐得住14000轉(zhuǎn)的高速甚至是21000轉(zhuǎn)的超高速。詳詢上海依肯 工程師  林萬翠

 

將液體石蠟、表面活性劑、司盤、蒸餾水等初步混合攪拌,后經(jīng)ikn真空乳化機高頻剪切混合即可形成納米乳劑,本法簡單,貯存穩(wěn)定,適合過濾除菌,對機體刺激性小,可用于多種給藥途徑。

用IKN設備好處是什么?效果好(研磨效果、均質(zhì)效果、分散效果、乳化效果……),速度快,效率高。每一臺設備都具有多功能改裝,根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么???那就是能耗低,據(jù)用過依肯的設備客戶反應,就電費就能省下不少。如何去選擇一臺合適的設備,一定會做一個明智的選擇!

ikn分體式高速均質(zhì)乳化機介紹:

 

為了達到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到14000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點,也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。

 

上海IKN設備的材質(zhì)為316L不銹鋼(食品級),功率為1.5/2.2/4 KW 對乳化機而言,在很多場合下處理高粘度、大顆粒物料,所以一般選擇比較大的功率電機。50HZ時設備轉(zhuǎn)速高達7890/13789RPM ,可以通過變頻調(diào)速,同時可通過皮帶加速 依肯的軸承可以承受14000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍,研磨的力度也是guo內(nèi)乳化機的3-4倍,這樣研磨的細度更小)。設備結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū),一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū),雖然都是三級結(jié)構(gòu),但是他們的設計不同理念不同,形狀及齒列的結(jié)構(gòu),溝槽是曲線,上下深度不一,上深下淺,配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蝕。依肯的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而國內(nèi)乳化機的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,而國內(nèi)的只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。轉(zhuǎn)子齒列的深度從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。

在相同直徑磨頭下,線速度可達V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

 

從設備角度分析,影響納米乳劑乳化均質(zhì)效果的因素:

1 磨頭的形式(臥式和立式)

2 磨頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(見磨頭結(jié)構(gòu))

4 物料在磨頭墻體的停留時間,乳化分散時間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,研磨速率取決于以下因素:

  • 磨頭的線速率
  • 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 (相對而言)

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 

IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

 

而對CM模塊頭,磨頭的間歇G理論可以無限小,但是由于高速的運轉(zhuǎn),造成軸的振動,需要一定的間歇,作用力可以無限大,但實際上比乳化機要好。這是粉碎研磨的重要因素,相當于guo內(nèi)乳化機的2-3倍。流量為0-50KG/H,腔體帶夾套,可以進行加熱或冷卻,采用進口DANFOSS變頻器對速度進行調(diào)節(jié),設備體積適中,電機選用的是進口ABB電機,西門子防爆電機。結(jié)構(gòu)設計采用的是目前zui流行的分體結(jié)構(gòu),密封可選擇德國機械密封,轉(zhuǎn)速可以達到14000轉(zhuǎn)。

 

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納米乳劑抗生素藥物循環(huán)式真空乳化機

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納米乳化機

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