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KRI 離子源推進(jìn)關(guān)鍵領(lǐng)域科技與科學(xué) 詳細(xì)摘要: KRI 離子源廣泛用于鍍膜, 半導(dǎo)體, 航天等各個(gè)領(lǐng)域, 推進(jìn)關(guān)鍵領(lǐng)域科技與科學(xué)
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源清潔聚合物表面時(shí), 如何選擇氣體 詳細(xì)摘要: 離子源用于清潔聚合物表面時(shí), 如何選擇應(yīng)用的氣體
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
離子源輔助鍍膜 IAD時(shí),霍爾和考夫曼哪個(gè)好 詳細(xì)摘要: 離子源輔助鍍膜 IAD 時(shí), 霍爾離子源和考夫曼離子源, 哪個(gè)好
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源可用于輔助鍍膜技術(shù) IAC 詳細(xì)摘要: KRI 離子源可用于輔助鍍膜技術(shù) IAC
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
霍爾離子源 EH5000F 用于大尺寸光學(xué)蒸鍍機(jī) 詳細(xì)摘要: 霍爾離子源 EH5000F 用于大尺寸光學(xué)蒸鍍機(jī)
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
KRI 霍爾離子源輔助制備碳化硅改性薄膜 詳細(xì)摘要: KRI 霍爾離子源輔助制備碳化硅改性薄膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
考夫曼離子源輔助沉積高性能紅外增透膜 詳細(xì)摘要: 考夫曼離子源 KDC 160 輔助沉積高性能紅外增透膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
KRI 離子源用于輔助沉積非晶硅紅外光學(xué)薄膜 詳細(xì)摘要: 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 持續(xù)轟擊 TiN 薄膜獲得更優(yōu)秀性能
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離子源在光學(xué)加工中具有高去除率和好穩(wěn)定性 詳細(xì)摘要: 離子源輔助蒸發(fā)沉積鍍鋁膜, 改善鋁膜結(jié)構(gòu)及耐腐蝕性
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-11-02 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
離子源和分子泵組用于氧化物濺射鍍膜設(shè)備 詳細(xì)摘要: 離子源輔助蒸發(fā)沉積鍍鋁膜, 改善鋁膜結(jié)構(gòu)及耐腐蝕性
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伯東射頻離子源成功用于輔助蒸鍍 TiO_2薄膜 詳細(xì)摘要: 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 成功用于輔助蒸鍍 TiO_2薄膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-31 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
鍍膜制品掉膜的主要原因是… 詳細(xì)摘要: 鍍膜制品掉膜的主要原因是…
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-31 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
離子源輔助蒸發(fā)沉積鍍鋁膜改善鋁膜結(jié)構(gòu) 詳細(xì)摘要: 離子源輔助蒸發(fā)沉積鍍鋁膜, 改善鋁膜結(jié)構(gòu)及耐腐蝕性
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-31 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
射頻離子源用于輔助制備 MoS2 自潤(rùn)滑涂層 詳細(xì)摘要: KRI 射頻離子源成功用于輔助制備 MoS2 自潤(rùn)滑涂層
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-31 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
考夫曼離子源用于 IBF 離子束拋光工藝 詳細(xì)摘要: 伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 用于 IBF 離子束拋光工藝
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-31 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
霍爾離子源用于蒸鍍天文望遠(yuǎn)鏡鏡片全反射膜 詳細(xì)摘要: 美國 KRI 霍爾離子源 EH 3000用于蒸鍍天文望遠(yuǎn)鏡鏡片全反射膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-17 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
射頻離子源持續(xù)轟擊TiN薄膜獲得更優(yōu)秀性能 詳細(xì)摘要: 伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 持續(xù)轟擊 TiN 薄膜獲得更優(yōu)秀性能
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-17 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
伯東 KRI 考夫曼離子源輔助鍍制 HfO2 薄膜 詳細(xì)摘要: 伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO2 薄膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-17 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
聚焦射頻離子源輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜 詳細(xì)摘要: 聚焦射頻離子源 RFICP 220 輔助磁控濺射鍍制 3D 玻璃膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-17 參考價(jià):¥ 300000 在線留言 -
聚焦型離子源輔助離子束濺射鍍制SiO_2薄膜 詳細(xì)摘要: 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 輔助離子束濺射鍍制 SiO_2薄膜
產(chǎn)品型號(hào): 所在地:上海市 更新時(shí)間:2023-08-17 參考價(jià):¥ 300000 在線留言