氧化鈦(TiO2)是一種具有多元晶格結(jié)構(gòu)的光學(xué)鍍膜材料, 氧化鈦在550nm處的折射率可在2.2～2.7之間變化, 是一種很好的高折射率材料.  因此, 氧化鈦(TiO2)是光學(xué)鍍膜材料中受歡迎的材料之一.

離子源助鍍鍍膜可改善膜層致密性、增加折射率、反射率, 提升產(chǎn)品性能指標(biāo).

某國(guó)內(nèi)光學(xué)鍍膜制造商為了制備 TiO2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用離子源輔助蒸鍍 TiO_2薄膜.

經(jīng)過(guò)與伯東工程師討論, 該制造商最終采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時(shí)為了為鍍膜工業(yè)提供穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達(dá)1x10-7hpa, 抽速可達(dá) 685 L/s, 很好保證成膜質(zhì)量.

美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合時(shí)間長(zhǎng)的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動(dòng)能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動(dòng)控制器, 一鍵自動(dòng)匹配

8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅(jiān)固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

運(yùn)行結(jié)果：

與正常蒸鍍工藝相比, 基片溫度相同條件下, 使用 KRI 射頻離子源 RFICP 380 輔助沉積工藝, 可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率；離子束助鍍工藝激光器峰值功率離散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸鍍工藝.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.

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上海伯東: 羅女士