離子刻蝕是利用陰極濺射效應對表面進行選擇性的剝離加工. 由于轟擊粒子小和離子刻蝕過程的計量極為精確, 因此, 用這種方法加工表面, 使表面溶解深度在單原子層范圍內(nèi). 離子刻蝕可用來清洗, 拋光或進行薄刻蝕. 簡單的說利用離子轟擊作用, 對材料表面進行刻蝕的過程.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 系列已廣泛被應用于離子刻蝕 (IBE) 工藝.

伯東 KRI 離子源考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies). 此兩個特殊條件對于刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質(zhì)可以達到優(yōu)化. 并且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應之型號: 射頻離子源 RFICP 380, 射頻離子源 RFICP 220, 射頻離子源 RFICP 140, 射頻離子源 RFICP 100, 射頻離子源 RFICP 40

伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) KRI 離子源大中國區(qū)總代理.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

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上海伯東: 羅女士