GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機(jī)與同類設(shè)備的對比
.發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中，高粘物料進(jìn)入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時(shí)間過長而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時(shí)間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

超高速顏料研磨均質(zhì)機(jī)，染料分散設(shè)備，高剪切研磨均質(zhì)機(jī)，高速研磨均質(zhì)機(jī)，超細(xì)研磨均質(zhì)機(jī)

 

染料傳統(tǒng)的分散設(shè)備為批次研磨均質(zhì)機(jī)，隨著工業(yè)化的發(fā)展，以及染料行業(yè)的不斷進(jìn)步，批次研磨均質(zhì)機(jī)的弊端暴露無遺，一是分散的不夠均勻，二是對于染料的細(xì)化能力不足。在這個(gè)大趨勢下，上海思峻自主研發(fā)了超高速高速研磨均質(zhì)機(jī)，SGN超高速高速研磨均質(zhì)機(jī)采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，是批次研磨均質(zhì)機(jī)的4-5倍。物料一進(jìn)一出，100%得到剪切分散，生產(chǎn)出來的染料產(chǎn)品，更加細(xì)膩均勻。

 

GMD2000系列超高速顏料研磨均質(zhì)機(jī)與同類設(shè)備的對比

• 發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中，高粘物料進(jìn)入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時(shí)間過長而導(dǎo)致嚴(yán)重發(fā)熱。RGS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時(shí)間，降低了物料發(fā)熱的狀況。

 

 

型號	標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 Rpm	標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s	馬達(dá)功率 KW	進(jìn)口尺寸	出口尺寸
GMD2000/4	300-1，000	14，000	44	2.2	DN25	DN15
GMD2000/5	1，000-1,500	10，500	44	7.5	DN40	DN32
GMD2000/10	3，000	7，300	44	15	DN50	DN50
GMD2000/20	8，000	4，900	44	37	DN80	DN65
GMD2000/30	20，000	2，850	44	75	DN150	DN125
GMD2000/50	40，000	2，000	44	160	DN200	DN150

              

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在GM2000的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GMD2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布就更窄。

 

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