詳細介紹
高分子材料均質機 高分子均質機 高分子材料分散機
一、高分子定義
高分子材料:以高分子化合物為基礎的材料。高分子材料是由相對分子質量較高的化合物構成的材料,包括橡膠、塑料、纖維、涂料、膠粘劑和高分子基復合材料,高分子是生命存在的形式。所有的生命體都可以看作是高分子的集合。
二、特征
一是分子量大(一般在10000以上),二是分子量分布具有多分散性。即高分子化合物與小分子不同,它在聚合過程后變成了不同分子量大小的許多高聚物的混合物。我們所說的某一高分子的分子量其實都是它的一種平均的分子量,當然計算平均分子量也以不同的權重方式分為了數(shù)均分子量、粘均分子量、重均分子量等。而小分子的分子量固定,都由確定分子量大小的分子組成。這是高聚物與小分子一個特征區(qū)別。
三、高分子設備原理
ZKE/中新寶研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機。ZKE/中新寶研磨分散機二級工作組,轉速高達18000rpm,剪切力強,分散更*。
KZSD2000系列研磨分散設備是ZKE公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
KZSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。初級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
*的定轉子結構,產生*的剪切力,可在真空或壓力工況下迅速減小液滴尺寸,使乳化更穩(wěn)定,分散更均勻。提供從小試 - 中試 - 大生產全系列產品,可以滿足不同的安裝條件和非標要求。
高剪切分散乳化就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相分布到另一個連續(xù)相中,而在通常情況下各個相是互不相溶的。由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經過高頻的循環(huán)往復,終得到穩(wěn)定的高品質產品。
我公司為*乳化機,均質機,分散機,研磨機,膠體磨
服務于制藥、化妝品、生物、食品等行業(yè)機械設備。
主要產品:真空乳化攪拌機組、栓劑真空乳化攪拌機組
全自動軟膏灌裝封尾機、全自動軟管裝盒機
膏霜類成套設備流水線、配液罐、配料罐、攪拌罐
適用工藝
適用于真空或壓力工況下對物料的分散、乳化、均質、混合等工藝。
設 備 選 型 表
型號 | 標準流量L/H | 輸出轉速Rpm | 標準線速度m/s | 馬達功率KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
KZSD2000/4 | 300-1,000 | 18,000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
KZSD2000/5 | 1,000-1,500 | 13,500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
KZSD2000/10 | 3,000 | 9,300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
KZSD2000/20 | 8,000 | 3,600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
KZSD2000/30 | 20,000 | 3,600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
KZSD2000/50 | 40,000 | 2,500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
注
* 表中上限處理量是指介質為“水”時測定的數(shù)據(jù);
* 如介質粘度或固含量較高,建議與管線式高剪切分散乳化機配合使用;
* 如有高溫、高壓、易燃易爆、腐蝕等特殊工況時,須提供詳細準確的參數(shù);
* 本表數(shù)據(jù)如有更改,恕不另行通知,正確參數(shù)以提供的實物為準。
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