2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF (248 nm) Step&Scan300mm雙級(jí)光刻系統(tǒng)。TWINSCAN AT:850B光刻機(jī)采用Carl Zeiss Starlith 850高級(jí)投影光學(xué)器件，數(shù)值孔徑 (NA)為0.80，這是KrF光刻機(jī)系統(tǒng)中可用的NA。

AT:850B光刻機(jī)具有行業(yè)的每小時(shí)95（300 毫米晶圓）的吞吐量，是 ASML 的 TWINSCAN雙級(jí)300毫米光刻平臺(tái)的成員。由于兩個(gè)階段同時(shí)工作，該平臺(tái)允許在另一個(gè)晶圓曝光的同時(shí)進(jìn)行晶圓對(duì)齊和調(diào)平，從而大大提高了生產(chǎn)力和準(zhǔn)確性。對(duì)準(zhǔn)和調(diào)平臺(tái)與曝光操作的分離實(shí)際上消除了非生產(chǎn)性開(kāi)銷時(shí)間，同時(shí)確保了制造精度。臺(tái)AT:850B系統(tǒng)將于本月交付給亞洲的一個(gè)主要客戶。

ASML 預(yù)計(jì) AT:850B 將成為一個(gè)大批量生產(chǎn)系統(tǒng)，用于廣泛的設(shè)備制造，包括110nm 及以下設(shè)計(jì)規(guī)則的非常*的存儲(chǔ)器和邏輯生產(chǎn)。ASML的高性能200mm光刻系統(tǒng)PAS 5500/850B™ 中也提供相同的Starlith 850高數(shù)值孔徑投影光學(xué)器件。隨著TWINSCAN AT:850B光刻機(jī)和PAS 5500/850B系光刻機(jī)的加入，ASML現(xiàn)在為300毫米或200毫米晶圓廠生產(chǎn)提供的擁有價(jià)值解決方案，在每種制造技術(shù)（i-line、KrF）中具有的NA和ArF。

“這些新的高NA系統(tǒng)是個(gè)使用KrF技術(shù)實(shí)現(xiàn)110nm特征尺寸芯片的批量生產(chǎn)，"ASML營(yíng)銷和技術(shù)執(zhí)行副總裁Martin van den Brink說(shuō)：“通過(guò)擴(kuò)展經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的KrF技術(shù)，我們正在為我們的客戶提供一種強(qiáng)大的成本效益手段，以縮小現(xiàn)有芯片設(shè)計(jì)并更快地將的芯片推向市場(chǎng)。"