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廣泛適用于材料、化工、制藥、精細陶瓷、造紙、化妝品、冶金等行業(yè)以顆粒物作為生產(chǎn)原料或中間體的實驗室分析和工業(yè)生產(chǎn)中質(zhì)量控制等諸多領域

采用全量程米氏散射理論1、測量范圍：0.1~600微米2、準確性誤差：±1%（國家標準物質(zhì)D50）重復性偏差：±1%（國家標準物質(zhì)D...

激光粒度儀WJL-606儀采用全量程米氏散射理論

激光粒度儀WJL-608分析儀采用全量程米氏散射理論

激光粒度儀WJL-612采用全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì)，根據(jù)大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群的粒度分布...

激光粒度儀WJL-616采用全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì)，根據(jù)大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群的粒度分布...

激光粒度儀WJL-622工作原理：采用全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì)，根據(jù)大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群...

激光粒度儀WJL-626工作原理：采用全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì)，根據(jù)大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群...

激光粒度儀WJL-628工作原理：采用全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì)，根據(jù)大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群...

顆粒圖像分析儀WKL-702WKL-702顆粒圖像分析儀將傳統(tǒng)的顯微測量方法與現(xiàn)代的圖像技術(shù)相結(jié)合，是一種采用圖像法進行顆粒形貌分析和粒度測量的顆粒分析系統(tǒng)，由...

WBL系列全自動比表面積及孔隙度分析儀產(chǎn)品描述：WBL系列全自動比表面積及孔隙度分析儀參照ISO9277、ISO15901國際標準和GB-119587國家標準，...

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