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更新時間：2022-11-17 18:29:58瀏覽次數(shù)：277次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備純氣含過量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。原理簡單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低，氣體指標(biāo)溫度，雜質(zhì)含量低，可選配自動系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)無人值守，應(yīng)用范圍廣，對原料氣無特殊要求。
品牌 其他品牌 產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)
制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備原理；
O2 + H2 ----- HO2
利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理，在氮?dú)庵屑尤霘錃猓旌蠚庠谘b有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng)，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過冷卻、吸附兩級干燥除水，得到高純氮?dú)狻?/p>
制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備特點(diǎn)：
● 純氣含過量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。
● 原理簡單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低
● 氣體指標(biāo)溫度，雜質(zhì)含量低
● 可選配自動系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)無人值守
● 應(yīng)用范圍廣，對原料氣無特殊要求
技術(shù)指標(biāo)：
普通氮?dú)猓?/p>
● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10～5000Nm3/hr
高純氮?dú)猓?br />● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點(diǎn)——≤－70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮?dú)饬?mdash;—10～5000Nm3/hr
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