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可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng)

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更新時間：2024-02-06 07:45:10瀏覽次數(shù)：68次

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產(chǎn)品簡介

詳細(xì)介紹

LIMA激光波長可調(diào)的高光譜顯微鏡，400-2500nm，光學(xué)分辨率<5nm

加拿大Photon ect.的LIMA可調(diào)高光譜成像系統(tǒng)規(guī)格：

光學(xué)規(guī)格	LIMA
光學(xué)規(guī)格	VIS400-1000nm	SWIR900-1620nm	e-SWIR1000-2500nm
光學(xué)分辨率（FWHM）	1.5-2.5nm	3.0-5.0	<5.0nm
光譜通道	帶外抑制：<-60dB@±40nm	帶外抑制：<-60dB@±80nm
空間分辨率	亞微米（受到光譜顯微鏡NA的限制）
相機(jī)	sCMOS (optionallyCCD,EMCCD)	InGaAscamera (ZephIR™1.7orAlizé™1.7)	HgCdTecamera (ZephIR™2.5)
激發(fā)波長（高達(dá)3個）	連續(xù)可調(diào)
顯微鏡特點	科研級別的產(chǎn)品，可正放或倒放
波長分辨率精度	FWHM/8（<0.7nm）
掃描速度	20-50ms穩(wěn)定時間(步距0.01-10nm)
XY方向的行程	76mm×52mm（搭配手動臺）
Z軸分辨率	100nm
白光照明	透射、反射，汞、鹵素
照明選項	高效率均勻光照明； Dia透射或Epi反射照明；明場或暗場（油性或干性）
數(shù)據(jù)處理	空間濾波，數(shù)據(jù)統(tǒng)計，光譜提取，數(shù)據(jù)歸一化，光譜標(biāo)定，光譜疊加，中心位置圖
軟件配置	電腦（Windows10-64bits）,PHySpec™控制分析軟件（含電腦）
重量	≈80kg(總重量220磅，凈重180磅)
尺寸	顯微鏡：31×85×82cm 超連續(xù)激光器：到44×25.1×40cm 可調(diào)濾波器：到30×23×17.5cm 組合：<105cm×85cm×82cm

加拿大Photon ect.的LIMA可調(diào)高光譜成像系統(tǒng)附件及可選項：

20×，40×，50×，60×，100×（5×，10×規(guī)格可定制）
機(jī)械電動臺	120×75×0.15mm，分辨率22nm
濾光輪	6個帶通濾波器
第二相機(jī)的接口；高分辨率模組：VIS<0.5nm,SWIR<1.0nm; 檢測中的高光譜濾波器（2D光譜顯微成像）; 偏振控制偏振起和分析儀



光學(xué)臺建議搭配氣升式防震臺：900mm×1800mm×60mm（36"×72"×2.4"）或900mm×900mm×60mm（36"×36"×2.4"）光學(xué)臺緊挨著標(biāo)準(zhǔn)的900mm×900mm×60mm（36"×36"×2.4"）光學(xué)臺

Photon等為高光譜暗場成像提供了兩種方式：可調(diào)諧激光源(TLS)允許在激發(fā)中過濾，而IMA是提供發(fā)射過濾的平臺。TLS由兩個模塊組成：超連續(xù)譜激光器和基于Photon的體積布拉格光柵（VBG）技術(shù)的激光線可調(diào)濾波器（LLTF帶通濾波器）。IMA由高光譜成像濾波器、高光譜模塊濾波器組成，也基于VBG技術(shù)。當(dāng)與配備暗場聚光鏡的科研級顯微鏡結(jié)合使用時，TLS和高光譜模塊濾波器可以將該顯微鏡轉(zhuǎn)變?yōu)楦吖庾V暗場設(shè)置。這些系統(tǒng)可在VIS(400-1000nm)、NIR(900-1620nm)或兩者(400-1620nm)光譜范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。這種的平臺允許對納米材料進(jìn)行深入表征，而無需任何特殊的樣品制備。

波長可調(diào)的高光譜顯微鏡是一種高光譜成像系統(tǒng)，也叫作可調(diào)高光譜成像系統(tǒng)、可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng)、激光波長可調(diào)的高光譜顯微鏡。

TLS法得到的結(jié)果：下圖為使用高光譜暗場成像研究的靶向CD44+人乳腺癌細(xì)胞的金納米粒子(AuNP)顯示的3D圖像，此類空間和光譜信息對于改進(jìn)復(fù)雜生物環(huán)境中基于納米等離子體的成像、疾病檢測和治療至關(guān)重要。該設(shè)置已成功用于在固定細(xì)胞制劑中對CD44靶向AuNP進(jìn)行3D光譜定位和光譜鑒定。

上面a圖代表100×物鏡的焦平面在玻璃基板表面上時的暗場圖像，b圖代表100×物鏡的焦平面在人類乳腺癌細(xì)胞的頂面或細(xì)胞內(nèi)部時的暗場圖像。

上圖表示使用Photon等公司的高光譜暗場成像儀研究以3nm的步長從432nm到849nm改變激發(fā)波長，100nm金納米粒子的散射數(shù)據(jù)。圖a和圖b顯示了從數(shù)據(jù)中提取的高光譜結(jié)果，它對應(yīng)圖c(典型的散射光譜)。波長的變化可以幫助識別粒子的大小，空間信息可以幫助評估它們的分布。