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MEB550S高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品簡介

詳細(xì)介紹

關(guān)鍵詞：磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、金屬膜、氧化膜、約瑟夫森結(jié)、超導(dǎo)、量子器件、量子比特、

多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導(dǎo)、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system

Evaporation system、Nb-based superconductor、超導(dǎo)鋁結(jié)、Josephson junction

產(chǎn)地：歐洲；型號(hào)：MEB550；應(yīng)用：制備金屬膜、氧化膜，超導(dǎo)鋁結(jié)等

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是量子器件制備中的儀器，用于制備各種高純金屬薄膜和氧化物薄膜。開展量子計(jì)算機(jī)實(shí)驗(yàn)研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導(dǎo)量子結(jié)，量子點(diǎn)電子自旋的研究，均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件。此款高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀（HV E-beam evaporation system）得到科研工作者廣泛使用和推崇，并且具有良好的聲譽(yù)。利用上述配置，研究者可以制備各種高品質(zhì)和高度可重復(fù)性薄膜材料。

目前包括物理所、清華大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、蘇州醫(yī)工所、長春光機(jī)所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關(guān)設(shè)備；在國際上也獲得了美國(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機(jī)構(gòu)的高度認(rèn)可。