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PLASSYS超導(dǎo)量子比特制備系列設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

根據(jù)近樣、離子束刻蝕、蒸鍍、濺射、氧化等功能在不通腔體中實(shí)現(xiàn)方式

詳細(xì)介紹

根據(jù)近樣、離子束刻蝕、蒸鍍、濺射、氧化等功能在不通腔體中實(shí)現(xiàn)方式，PLASSYS提供2腔體、3腔體、4腔體、5腔體的電子束蒸鍍及磁控濺射設(shè)備，并根據(jù)用戶的預(yù)算情況，PLASSYS可以提供電子束蒸鍍系列設(shè)備MEB550S, MEB550SL, MEB550S2, MEB550S2-I, MEB550S3, MEB550S4-I, MEB550SL3, MEB700S2-II, MEB700SL4, MEB700SL5等多種型號電子束蒸鍍設(shè)備，以及MP350S， MP600S、MPE550S, MP700S等型號磁控濺射設(shè)備。

目前包括物理所、清華大學(xué)、南方科技大學(xué)、蘇州納米所、上海微系統(tǒng)所、中科大、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、蘇州醫(yī)工所、長春光機(jī)所、上海酸鹽研究所等單位均在使用相關(guān)設(shè)備；在國際上也獲得了美國(Yale Univ, Princeton Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英國（Glasgow Univ）、德國（KIT Karlsruhe, Dresden Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo Univ)、加拿大(Waterloo Univ, Sherbrooke Univ)、法國 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN, Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers Univ)、俄羅斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等國家的機(jī)構(gòu)的高度認(rèn)可。

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