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半導(dǎo)體工藝技術(shù)一直在不斷縮小規(guī)模并朝著3D結(jié)構(gòu)發(fā)展，這對(duì)薄膜沉積提出了挑戰(zhàn)
CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設(shè)備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓
AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度
AL-1通過交替向反應(yīng)室提供有機(jī)金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應(yīng)沉積薄膜，實(shí)現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率
PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)
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