PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)。

該系統(tǒng)由于采用了大型反應(yīng)室，并通過(guò)載盤裝載多片晶圓進(jìn)行批量處理，因此產(chǎn)量較高。在直徑360mm的區(qū)域內(nèi)可以沉積出具有優(yōu)異的厚度均勻性和應(yīng)力控制的薄膜，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。用戶友好的觸摸屏界面用于參數(shù)控制和配方存儲(chǔ)。該系統(tǒng)是大規(guī)模生產(chǎn)用薄膜沉積的理想選擇，具有優(yōu)異的重復(fù)性。

主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

加工范圍：?360 mm (?3" x 9, ?4" x 6, ?6" x 3)

優(yōu)異的均勻性和應(yīng)力控制

的工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性

堅(jiān)固的系統(tǒng)，的運(yùn)行/維護(hù)成本

用戶友好的觸摸屏界面，用于參數(shù)控制和配方存儲(chǔ)。

應(yīng)用

SiH4-SiNx

SiH4-SiO2

液體前驅(qū)體(SN-2)SiNx。

TEOS-SiO2