AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機(jī)金屬原料和氧化劑交替供給反應(yīng)室，僅通過(guò)表面反應(yīng)進(jìn)行薄膜沉積。該系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定室，且不向大氣開(kāi)放反應(yīng)室，因此能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜沉積的優(yōu)良再現(xiàn)性。

主要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)

可以在原子層水平上實(shí)現(xiàn)均勻的層控制。

可實(shí)現(xiàn)高縱橫比結(jié)構(gòu)的共形沉積。

具有優(yōu)良的平面內(nèi)均勻性和再現(xiàn)性，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的工藝。

采用的反應(yīng)室結(jié)構(gòu)，優(yōu)化了原料的氣路和氣體流，抑制了粒子。

通過(guò)采用電容耦合等離子體(CCP)系統(tǒng)，使反應(yīng)室體積最小化，縮短了氣體吹掃時(shí)間，加快了一個(gè)循環(huán)的速度。

應(yīng)用

氮化膜（AlN、SiN）的形成和低溫形成的氧化膜（AlOx、SiO2）。

電子設(shè)備的閘門絕緣子

半導(dǎo)體、有機(jī)EL等的鈍化膜。

半導(dǎo)體激光器的反射面

在MEMS等3D結(jié)構(gòu)上的沉積

石墨烯上的沉積

碳納米管保護(hù)膜粉末涂層