CMD2000納米二氧化硅研磨分散機(jī)*上海依肯/IKN
【簡單介紹】
【詳細(xì)說明】
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納米二氧化硅分散在多個領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。IKN/依肯研磨分散機(jī)*的結(jié)構(gòu),全新的技術(shù),專業(yè)應(yīng)對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團(tuán)聚,分散效果好。
對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn),納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級團(tuán)聚體,導(dǎo)致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,IKN研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機(jī),應(yīng)對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SGN研磨分散機(jī)進(jìn)行分散處理,*。
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是依肯機(jī)械(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
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IKN/依肯納米研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。
IKN/依肯納米二氧化硅研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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