微機(jī)械剝離法石墨烯研磨分散機(jī)，微機(jī)械剝離法石墨烯，高剪切分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)，進(jìn)口研磨分散機(jī)

石墨烯的生產(chǎn)工藝 

制備石墨烯的方法有很多。但歸納起來兩大類，一類是從大往小做，也叫自上而下法。例如，以石墨為原料，通過膠帶粘貼、氧化還原、液相插層和機(jī)械剝離等手段破壞石墨晶體的長程有序堆疊，得到單層或少數(shù)幾層的石墨烯。另一類是從小往大長，也叫自下而上法。例如，以含碳小分子等為前驅(qū)體，采用化學(xué)氣相沉積、外延生長和有機(jī)合成等方法將碳素組裝成石墨烯。

2004年，Geim等*用微機(jī)械剝離法，成功地從高定向熱裂解石墨(highly oriented pyrolytic graphite)上剝離并觀測到單層石墨烯。Geim研究組利用這一方法成功制備了準(zhǔn)二維石墨烯并觀測到其形貌，揭示了石墨烯二維晶體結(jié)構(gòu)存在的原因。微機(jī)械剝離法可以制備出高質(zhì)量石墨烯，但存在產(chǎn)率低和成本高的不足，不滿足工業(yè)化和規(guī)模化生產(chǎn)要求，2004年只能作為實(shí)驗室小規(guī)模制備。
 

當(dāng)前相對成熟的技術(shù)分別是，以氧化還原和液相插層為代表的大規(guī)模粉體，和以化學(xué)氣相沉積為代表的大面積薄膜。兩者生產(chǎn)工藝*不同，而產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域也基本不重疊。前者通常以重量來計，可達(dá)公斤至噸級，產(chǎn)品剝離效率高、比表面積大、成本低，但缺陷多、可控性差，一般用作鋰電池和超級電容器電極導(dǎo)電填料，或用于塑料、油墨、涂料、金屬和陶瓷等多種基體的增強(qiáng)或功能填料，形成納米復(fù)合材料。而后者通常以面積來計量，依托其高透光率和面向電導(dǎo)率，通常作為透明電極用于觸摸屏和光伏等領(lǐng)域。

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但是。當(dāng)前主要瓶頸有兩點(diǎn)，一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)?；a(chǎn)，二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺得*個已不是問題，因為已有多個十噸乃至百噸級產(chǎn)線投產(chǎn)，規(guī)模化看似已迎刃而解。事實(shí)真是如此嗎？除了產(chǎn)能，我認(rèn)為更重要的是品質(zhì)，因為原料的品質(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對于實(shí)際應(yīng)用，純度是否足夠高？批次穩(wěn)定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產(chǎn)過程可否更綠色？技術(shù)的進(jìn)步永無止境，可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

對于第二點(diǎn)，我想大家談的比較多了，這是產(chǎn)品出路和價值體現(xiàn)的問題，非常關(guān)鍵，但也很難。作為一種新材料，石墨烯的*年屬于應(yīng)用發(fā)散期，即大家認(rèn)為石墨烯幾乎是*的，然后在不同領(lǐng)域嘗試應(yīng)用，是在做加法。目前，我們已步入應(yīng)用集中期，要開始做減法了，因為大部分潛在應(yīng)用在實(shí)踐中被證實(shí)并無實(shí)用價值，或是技術(shù)上，或是商業(yè)上。在這個階段，產(chǎn)業(yè)鏈上下游的互動非常必要。我們必須面向用戶進(jìn)行二次開發(fā)，去解決分散和成型等共性技術(shù)難題，讓石墨烯更接“地氣”。zui終交給用戶的，不僅是高品質(zhì)的材料，還有配套的應(yīng)用解決方案，也就是solution。

 有可能你會問  一般國內(nèi)做碳管或者石墨烯會用砂磨機(jī)或者球磨機(jī)   超聲波分散機(jī)等等？  球磨機(jī)或者砂磨機(jī)他們偏重研磨炸   會破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。 我們的研磨分散機(jī)偏重  分散剝離  。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn)，只是作為一種輔助分散。

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CMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)

CMD2000系列是IKN（上海）公司2013年研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

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