CMD2000芳綸涂覆隔膜研磨分散機
【簡單介紹】
【詳細說明】
芳綸涂覆隔膜研磨分散機,芳綸纖維涂覆隔膜濕法研磨分散機,芳綸涂覆隔膜高剪切研磨分散機,管線式芳綸涂覆隔膜研磨分散機,在線式芳綸涂覆隔膜研磨分散機,進口芳綸涂覆隔膜研磨分散機,中試型芳綸涂覆隔膜研磨分散機
IKN研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
芳綸纖維涂覆隔膜是以超短芳綸纖維為主,配加芳綸沉析纖維抄造而成,通過調(diào)整纖維配方和成型工藝可滿足電池隔膜特定的透氣性和孔隙率要求,電池隔膜可實現(xiàn)電池正負極的機械隔離功能,同時保證低的電阻和高的離子電導(dǎo)率,還具有足夠的電化學(xué)穩(wěn)定性。即具有優(yōu)異的耐溫性能、高清度、耐疲勞性能、低變性、耐火阻燃性能、耐化學(xué)腐蝕性,比重小等優(yōu)點,可廣泛用于各種離子電池的制造中。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
工藝應(yīng)用:
食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質(zhì) 可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解
動物和植物組織的超細破碎及漿化加工 不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散
不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散 納米材料團聚物的強力解聚與超細分散
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